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陳林森:引領(lǐng)微納光制造走向世界


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習(xí)近平總書(shū)記號(hào)召:“廣大科技工作者要把論文寫(xiě)在祖國(guó)的大地上,把科技成果應(yīng)用在實(shí)現(xiàn)現(xiàn)代化的偉大事業(yè)中。”
陳林森,以一個(gè)平凡人的六十年歲月,寫(xiě)就了我國(guó)微納光制造領(lǐng)域不平凡的奮斗史。作為我國(guó)最早從事全息數(shù)字化與微納光制造工程研究的專家,陳林森以“咬定青山不放松”的韌勁,堅(jiān)持30 年深耕科研一線, 在基礎(chǔ)研究與工程應(yīng)用上協(xié)同創(chuàng)新,終讓他在專業(yè)領(lǐng)域厚積薄發(fā)、成績(jī)斐然。
在大面積微納制造這一重大難題上,陳林森系統(tǒng)提出并實(shí)現(xiàn)了“微納光制造”在基礎(chǔ)技術(shù)、先進(jìn)算法、核心工藝和重大裝備的創(chuàng)新途徑,打破了我國(guó)納米制造裝備長(zhǎng)期對(duì)外依賴的局面,有效提升了我國(guó)相關(guān)產(chǎn)業(yè)自主創(chuàng)新能力,為大面積信息光電子創(chuàng)新應(yīng)用開(kāi)辟新途徑,為解決國(guó)家重大工程和產(chǎn)業(yè)發(fā)展卡脖子問(wèn)題,建立可持續(xù)信息光電子的原始創(chuàng)新能力,做出了突出貢獻(xiàn)。
為實(shí)現(xiàn)成果轉(zhuǎn)化,推動(dòng)納米產(chǎn)業(yè)發(fā)展,陳林森積極創(chuàng)辦蘇州蘇大維格科技集團(tuán)股份有限公司(簡(jiǎn)稱蘇大維格),打造出“模塊化、知識(shí)密集、可升級(jí)和快速配置”的微納光制造創(chuàng)新平臺(tái),通過(guò)持全鏈條創(chuàng)新, 跨學(xué)科多領(lǐng)域交叉,形成了系列卓越產(chǎn)品, 創(chuàng)建出一支國(guó)內(nèi)為數(shù)不多的微納光學(xué)領(lǐng)域的高水平創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)團(tuán)隊(duì),并于2012 年在深交所創(chuàng)業(yè)板上市,成為我國(guó)產(chǎn)學(xué)研合作成功的典范。

歲月為證,奮斗不止
從中學(xué)老師到我國(guó)全息數(shù)字化與微納光制造工程研究開(kāi)拓者
1978 年,國(guó)家恢復(fù)高考第二年,全國(guó)610 萬(wàn)人報(bào)考,彼時(shí)17 歲的陳林森憑借聰慧勤奮幸運(yùn)成為被錄取的40.2 萬(wàn)分之一, 懵懂中選擇的“物理系”亦隱約為人生航線錨定了方向。畢業(yè)后,陳林森回到自己的家鄉(xiāng)江蘇省大豐縣,成為了新豐中學(xué)一名人民教師,但他的事業(yè)起點(diǎn)還要從一年后算起。對(duì)青年時(shí)的陳林森來(lái)說(shuō),大學(xué)四年的探索與學(xué)習(xí)才是開(kāi)啟科學(xué)認(rèn)知的開(kāi)始,面對(duì)內(nèi)心強(qiáng)烈的求知欲和自我期待,一年后,他毫不猶豫選擇去蘇州大學(xué)激光研究室攻讀光學(xué)專業(yè)碩士。而這三年,也真正開(kāi)啟了陳林森的科研之路,奠定了他日后扎根全息數(shù)字化與微納光制造工程研究領(lǐng)域的基礎(chǔ)。攻讀碩士學(xué)位期間,陳林森完成多項(xiàng)科研成果,在他攻讀碩士學(xué)位的第二年,就參加了蘇州大學(xué)拳頭產(chǎn)品——激光研究所模壓全息制版技術(shù)的科研攻關(guān)。求學(xué)期間他一刻不曾懈怠,憑借各科優(yōu)異的成績(jī)獲得留校任教機(jī)會(huì)。
1996年,陳林森以高級(jí)訪問(wèn)學(xué)者的身份來(lái)到卡內(nèi)基梅隆大學(xué)電子與計(jì)算機(jī)系學(xué)習(xí),這是計(jì)算機(jī)光學(xué)數(shù)字研究領(lǐng)域的國(guó)際一流大學(xué)。在這里陳林森學(xué)習(xí)了更為先進(jìn)的技術(shù)及理念,也為之后科研之路奠定了基石。在國(guó)外訪問(wèn)交流期間,美國(guó)大學(xué)完善的科研平臺(tái),靈活的人才培養(yǎng)制度,完善的產(chǎn)學(xué)研體系,以及產(chǎn)業(yè)界對(duì)科技研發(fā)巨額的不懈投入和對(duì)科技人才的重視,給他留下了極為震撼的印象。
回國(guó)后,陳林森任蘇州大學(xué)信息光學(xué)工程研究所所長(zhǎng)和博士生導(dǎo)師。他深深體會(huì)到了與國(guó)外科技水平的差距,特別是在裝備平臺(tái)和機(jī)制體制方面,認(rèn)識(shí)到一定要打破科技創(chuàng)新的壁壘,有所突破。他幾年內(nèi)帶領(lǐng)團(tuán)隊(duì)先后研發(fā)了全息母版制作技術(shù)、整套真彩色模壓全息制版技術(shù),推出我國(guó)第一張動(dòng)態(tài)合成模壓全息圖。在全息數(shù)字化、衍射光學(xué)元件方面,為解決卡脖子難題和推進(jìn)全息成果的產(chǎn)業(yè)化,做出了重要貢獻(xiàn)。他提出了“全息數(shù)字化概念”,巧妙地提出“位相光柵干涉光學(xué)頭”,利用像素化光斑做瞬態(tài)干涉光刻,攻克了在普通工業(yè)環(huán)境下“全息圖像制版”的國(guó)際難題,研制成功“數(shù)碼激光全息制備系統(tǒng)”HoloMaker,在國(guó)內(nèi)外普及應(yīng)用,推動(dòng)了全息產(chǎn)業(yè)的形成和快速發(fā)展,使得中國(guó)在全息光學(xué)領(lǐng)域走到國(guó)際前列。為此,我國(guó)光學(xué)泰斗王大珩院士主持了項(xiàng)目驗(yàn)收,評(píng)價(jià)其為國(guó)際領(lǐng)先水平。“數(shù)碼全息制版系統(tǒng)與生產(chǎn)技術(shù)”獲1999 年江蘇省科技進(jìn)步獎(jiǎng)一等獎(jiǎng),2001 年度國(guó)家科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)。至今,該工作進(jìn)展,仍是全息產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵制版技術(shù)。

全鏈條創(chuàng)新,跨學(xué)科多領(lǐng)域交叉
打造產(chǎn)學(xué)研合作成功典范
創(chuàng)新是當(dāng)今世界引領(lǐng)發(fā)展的第一動(dòng)力。然而,我國(guó)在相當(dāng)多的行業(yè)領(lǐng)域,關(guān)鍵技術(shù)仍有很高的對(duì)外依存度,中國(guó)需要打破國(guó)外的技術(shù)壟斷,就必須提升自主創(chuàng)新的能力。同時(shí)重大科技創(chuàng)新活動(dòng)往往具有高度系統(tǒng)性和復(fù)雜性,需要高效的組織動(dòng)員體系和統(tǒng)籌協(xié)調(diào)的科技資源配置模式。
陳林森敏銳地注意到了創(chuàng)新的超前性以及創(chuàng)新與產(chǎn)業(yè)發(fā)展的適應(yīng)性,懷抱著科技報(bào)國(guó)的理想和個(gè)人的科技?jí)粝耄鲃?dòng)承擔(dān)了國(guó)家賦予的責(zé)任和使命,積極探索科技創(chuàng)新與高校產(chǎn)學(xué)研的創(chuàng)新運(yùn)行機(jī)制。2001年,憑借十幾年大學(xué)教學(xué)和科研經(jīng)歷所打下的堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ),他帶領(lǐng)蘇州大學(xué)光電學(xué)院一批以青年人才為主的科技創(chuàng)新團(tuán)隊(duì),以“寬幅激光3D圖像光刻直寫(xiě)系統(tǒng)”核心技術(shù)組建了蘇大維格數(shù)碼光學(xué)有限公司,從事激光圖像制作技術(shù)、系統(tǒng)和轉(zhuǎn)移材料的研發(fā)與規(guī)模化生產(chǎn),從一個(gè)高校的課題組,逐步發(fā)展成為具有自主創(chuàng)新能力的高新技術(shù)企業(yè)。
公司成立以來(lái),始終以“自主創(chuàng)新,不做跟隨者”為核心價(jià)值觀,將原創(chuàng)技術(shù)作為安身立命之本。創(chuàng)立的起初三年非常困難:需要資金、需要凝聚人才、需要開(kāi)拓市場(chǎng)、需要規(guī)范管理。天道酬勤,在陳林森的帶領(lǐng)下,通過(guò)機(jī)制體制創(chuàng)新,開(kāi)展需求牽引的基礎(chǔ)技術(shù)和應(yīng)用協(xié)同研究,建立一體化設(shè)計(jì)全鏈條研究機(jī)制,系統(tǒng)性地打通了基礎(chǔ)研究與工程化評(píng)價(jià)的協(xié)同組織模式,逐步走上了快速發(fā)展之路。通過(guò)國(guó)家戰(zhàn)略需求牽引,他帶領(lǐng)團(tuán)隊(duì)在納米光變色晶體、卷對(duì)卷納米壓印技術(shù)、大面積像素化干涉光刻,衍射光學(xué)器件的研究方面,做出了突破性工作:
2001年 -2007年,提出了“ 光子晶體結(jié)構(gòu)各向異色光變色”方案,自主研制的整版納米拼版系統(tǒng),制備了整版(600mm×800mm)納米光柵深紋結(jié)構(gòu)模板。2004年開(kāi)始,應(yīng)用于我國(guó)二代身份證、駕駛證等法律證卡的物理視讀防偽,至今仍發(fā)揮重要社會(huì)效益。國(guó)際上1998 年提出光子晶體理論,2002 年提出光子禁帶。本項(xiàng)目首創(chuàng)了人工納米結(jié)構(gòu)光子晶體膜,利用其各向異性變色效應(yīng),實(shí)現(xiàn)了國(guó)家級(jí)的規(guī)模化應(yīng)用,產(chǎn)生了廣泛行業(yè)影響,得到同行專家的高度評(píng)價(jià)。
2002年起,領(lǐng)銜承擔(dān)國(guó)家863 計(jì)劃804主題項(xiàng)目,承擔(dān)大口徑衍射光學(xué)元件的關(guān)鍵技術(shù)研究至今,承擔(dān)了我國(guó)在該方面的重大研制任務(wù)。推動(dòng)建立了我國(guó)最大口徑的全息曝光系統(tǒng)、建立了我國(guó)最大規(guī)模的數(shù)字光全息干涉光刻系統(tǒng)。該項(xiàng)工作,使得我國(guó)掌握了大口徑衍射元件的關(guān)鍵工藝,解決了卡脖子難題,使我國(guó)的衍射器件的研制水平躋身國(guó)際先進(jìn)行列,成為國(guó)內(nèi)唯一、國(guó)際少數(shù)有能力制備米級(jí)全息光柵或元件的單位。
2002年 -2009年,在納米壓印關(guān)鍵技術(shù)研究方面,提出一系列解決方案。2003年率先在國(guó)際上實(shí)現(xiàn)卷對(duì)卷納米壓印的工業(yè)化應(yīng)用。“卷對(duì)卷納米套準(zhǔn)壓印光刻系統(tǒng)” 研制成功,標(biāo)志著柔性光電子材料/器件的制造,從2D表面結(jié)構(gòu)向 2D/3D多功能結(jié)構(gòu)邁進(jìn)了一大步,獲得國(guó)內(nèi)外同行專家(中國(guó)科協(xié)主席萬(wàn)鋼教授,美國(guó)密西根大學(xué)郭靈杰教授,美國(guó)國(guó)家工程院院士、現(xiàn)香港大學(xué)張翔教授等)高度評(píng)價(jià)。因而“卷對(duì)卷納米壓印關(guān)鍵技術(shù)與應(yīng)用”獲2011年度江蘇省科技獎(jiǎng)一等獎(jiǎng),陳林森榮獲“建國(guó)60 年全國(guó)印刷業(yè)百名技術(shù)標(biāo)兵稱號(hào)”。2003年 -2007年,發(fā)明了“基于SLM亞波長(zhǎng)干涉光刻方法”,實(shí)現(xiàn)了42吋(當(dāng)時(shí)國(guó)際最大幅面)亞波長(zhǎng)激光干涉光刻系統(tǒng)。莊松林院士主持了成果驗(yàn)收。該成果為大面積納米壓印模具制備提供了有效手段,應(yīng)用于“結(jié)構(gòu)色”納米印刷。該工作得到NSF,國(guó)家 863 計(jì)劃重點(diǎn)項(xiàng)目、江蘇省重大成果轉(zhuǎn)化專項(xiàng)資助。“寬幅微納圖形化制造技術(shù)與產(chǎn)業(yè)應(yīng)用”獲2011年度國(guó)家科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)。

自強(qiáng)自立,不斷創(chuàng)新
面向產(chǎn)業(yè)技術(shù)變革,建長(zhǎng)板、補(bǔ)短板
習(xí)近平總書(shū)記指出:“科學(xué)研究既要追求知識(shí)和真理,也要服務(wù)于經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展和廣大人民群眾。”
2012年6月28日,伴隨著深圳證券交易所清澈回蕩的開(kāi)市鐘聲,蘇大維格在 A 股創(chuàng)業(yè)板正式掛牌上市。這意味著陳林森帶領(lǐng)蘇大維格走過(guò)了積累起步和創(chuàng)新平臺(tái)協(xié)同的時(shí)期,邁入了產(chǎn)業(yè)規(guī)模化的新階段。通過(guò)10 年的發(fā)展積淀,他帶領(lǐng)團(tuán)隊(duì)從關(guān)鍵核心技術(shù)攻關(guān)到重大目標(biāo)產(chǎn)品培育,打造了自主可控的技術(shù)創(chuàng)新體系和可持續(xù)發(fā)展能力 , 成為了國(guó)內(nèi)微納光學(xué)技術(shù)應(yīng)用的開(kāi)拓者,以及國(guó)內(nèi)外領(lǐng)先的微納光學(xué)產(chǎn)品制造和技術(shù)服務(wù)商。
蘇大維格上市后,陳林森帶領(lǐng)團(tuán)隊(duì)依舊沉得住氣,潛心攻克微納制造產(chǎn)業(yè)鏈基礎(chǔ)問(wèn)題和關(guān)鍵技術(shù)、高端裝備研究,及柔性光電子材料 /器件的理論設(shè)計(jì)與制備, 建長(zhǎng)板,補(bǔ)短板,穩(wěn)步提升微納光制造平臺(tái)的綜合能力。
國(guó)際上,激光光刻直寫(xiě)設(shè)備是光掩模制備的主要工具,尤其在高世代TFT- Array 掩模的平面圖形,面積可達(dá)米級(jí)(瑞典MICRONIC),單價(jià)高于1.5億元/套,制備一個(gè)線寬分辨率1.5微米的光掩模單價(jià)500萬(wàn)人民幣;然而,這種激光直寫(xiě)設(shè)備并不適用于微納3D形貌結(jié)構(gòu)和深紋圖形制備。已有的藍(lán)光405nm 直接成像光刻(DIL)適合光刻分辨率較低的圖形,也不適用于3D 微結(jié)構(gòu)的灰度光刻。因此,面向柔性光電子材料與器件制備需求,必須攻克大面積3D 形貌的微結(jié)構(gòu)的高效、高精度制備,采用更新的技術(shù)方法和工藝,來(lái)解決海量數(shù)據(jù)高效率轉(zhuǎn)化、高精度數(shù)據(jù)迭代與疊加曝光,高速率飛行直寫(xiě)技術(shù)的難題。
2020年7月底,全球首臺(tái)大型紫外3D 直寫(xiě)光刻設(shè)備iGrapher3000(110吋幅面,2500mm×1500mm),在蘇大維格下線并投入工業(yè)運(yùn)行。iGrapher3000 主要用于在大幅面基板上制備3D 形貌的微納結(jié)構(gòu),為新穎材料和光電子功能器件提供了先進(jìn)手段。陳林森帶領(lǐng)團(tuán)隊(duì)歷時(shí)15年,攻克了基于“結(jié)構(gòu)模型”-“圖形數(shù)據(jù)處理”-“并行掃描曝光”模式的一系列3D直寫(xiě)光刻技術(shù)難關(guān)。突破了高分辨率3D數(shù)據(jù)分層處理和數(shù)據(jù)流上載技術(shù),解決了光學(xué)頭在大幅面基片上高速掃描時(shí)的聚焦穩(wěn)定性問(wèn)題,達(dá)到大面積任意微納3D 形貌可控制備的技術(shù)效果。完成了多個(gè)型號(hào)直寫(xiě)光刻設(shè)備研制,完整掌握了超大幅面微納光刻的關(guān)鍵技術(shù),解決了卡脖子問(wèn)題。該成果已在清華大學(xué)等高校、中科院和中電科研究所、中外企業(yè)等逾百家國(guó)內(nèi)外單位應(yīng)用,用于柔性光電子與器件前瞻性研究和產(chǎn)品創(chuàng)新。應(yīng)邀發(fā)表于Adma(綜述28 頁(yè))、ACS nano等,得到國(guó)家863計(jì)劃重大項(xiàng)目、國(guó)家重大科學(xué)儀器設(shè)備的資助,成果填補(bǔ)了我國(guó)大型光刻直寫(xiě)設(shè)備行業(yè)空白。2016年,作為863計(jì)劃先進(jìn)制造領(lǐng)域的標(biāo)志性成果,參加“國(guó)家十二五科技創(chuàng)新成就展”。“面向柔性光電子的微納制造關(guān)鍵技術(shù)與應(yīng)用”獲2019 年度國(guó)家科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)。
此外,陳林森還帶領(lǐng)團(tuán)隊(duì)發(fā)明了“透明導(dǎo)電膜的微納制造方法”,提出了基于納米壓印與納米導(dǎo)電材料填充的柔性電路的制造方法,在柔性襯底表面壓印深槽結(jié)構(gòu)并填充納米導(dǎo)電材料,來(lái)實(shí)現(xiàn)透明導(dǎo)電膜。基于納米壓印增材制造解決方案,使精密電路制造不需用金屬蝕刻工藝,沒(méi)有環(huán)境污染問(wèn)題,終結(jié)了數(shù)十年來(lái),柔性印刷電路的銅蝕刻歷史,實(shí)現(xiàn)了綠色制造的變革性技術(shù)。產(chǎn)品導(dǎo)電率0.1歐/方-5歐/方,透明度>88%,彎折次數(shù)>20 萬(wàn)次、線寬3 微米@65 吋,信耐性和性能一致性,均為國(guó)際領(lǐng)先指標(biāo)。在透明可折疊超級(jí)電容器、高性能OLED發(fā)光、透明屏蔽膜和電致變色器件等方面的一系列高質(zhì)量研究發(fā)表于EES(IF30), ACS nano.,Plasma,O.E等期刊。該工作得到NSF,國(guó)家國(guó)際科技合作計(jì)劃的資助。相關(guān)專利被國(guó)內(nèi)外著名企業(yè)引證數(shù)百余次。2015 年,建立國(guó)際上首條大尺寸柔性導(dǎo)電膜的工程化產(chǎn)線,2019年,建立了86 吋套準(zhǔn)型大尺寸導(dǎo)電膜制造產(chǎn)線。隨著5G 的賦能,86 吋高性能觸控膜AD-film 形成批量供貨能力,智慧交互終端面向消費(fèi)電子領(lǐng)域的產(chǎn)業(yè)應(yīng)用生態(tài)將逐漸形成,大屏觸控交互體驗(yàn)和應(yīng)用會(huì)更加豐富,帶來(lái)更大的國(guó)內(nèi)外市場(chǎng)開(kāi)拓機(jī)會(huì)。將促進(jìn)大尺寸TV 終端,從娛樂(lè)用途的“看”,向交互功能的“用”、到“提供生產(chǎn)力”的新場(chǎng)景發(fā)展。
百余年來(lái),數(shù)字圖像都是以“像素”為單位來(lái)表達(dá)的,無(wú)論油墨印刷還是屏幕顯示都是如此。因此,至今在立體圖像印刷或立體3D 顯示上,在世界范圍內(nèi),未取得實(shí)質(zhì)進(jìn)展。陳林森提出以“微納結(jié)構(gòu)形貌”表達(dá)圖像,定義了“微納結(jié)構(gòu)形貌”表達(dá)多維圖像(立體浮雕、動(dòng)感和光學(xué)紋理)的計(jì)算機(jī)文檔格式和海量處理與設(shè)計(jì)的算法,開(kāi)發(fā)了多維圖像的設(shè)計(jì)與處理軟件,具備各種效果與質(zhì)感的光學(xué)3D 圖像的設(shè)計(jì)能力;自主開(kāi)發(fā)了將海量數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)化成微納結(jié)構(gòu)的3D 光刻軟件和制版系統(tǒng),獨(dú)創(chuàng)了微納結(jié)構(gòu)形貌的數(shù)據(jù)處理算法和3D 導(dǎo)航飛行光刻直寫(xiě)技術(shù), 支持整版多維圖像(立體浮雕圖形、動(dòng)態(tài)圖像、光學(xué)紋理)3D 制版,制版效率與幅面全球領(lǐng)先;自主研制了卷對(duì)卷微納轉(zhuǎn)印技術(shù)與系統(tǒng),突破了微納結(jié)構(gòu)的圖像轉(zhuǎn)移工藝與材料瓶頸,實(shí)現(xiàn)了微納結(jié)構(gòu)材料- 光學(xué)3D 印材的規(guī)模量產(chǎn),轉(zhuǎn)印制程無(wú)排放,綠色環(huán)保,將對(duì)圖像工程與印刷業(yè)的技術(shù)進(jìn)步產(chǎn)生深遠(yuǎn)影響。5G來(lái)臨后,在可支持高容量數(shù)據(jù)傳輸?shù)南乱淮苿?dòng)終端3D 顯示方面,納米3D印刷涉及的立體圖像核心技術(shù),將為移動(dòng)終端的裸眼3D 顯示研究和工程化,提供理論方法、數(shù)據(jù)設(shè)計(jì)和3D 制版的技術(shù)支撐。尤其,為基于向量光場(chǎng)和LCD的裸眼3D 顯示屏設(shè)計(jì)與制造提供了基礎(chǔ)技術(shù),將大大推進(jìn)3D 顯示產(chǎn)業(yè)研發(fā)的進(jìn)程。
陳林森帶領(lǐng)團(tuán)隊(duì)始終堅(jiān)持原創(chuàng)方法與核心技術(shù)研究,三獲國(guó)家科技進(jìn)步獎(jiǎng),在微納光制造領(lǐng)域核心關(guān)鍵技術(shù)與高端裝備方向取得的突破,為產(chǎn)業(yè)變革并突破經(jīng)典技術(shù)極限提供了新路徑,為我國(guó)從根本上打破技術(shù)封鎖和訛詐提供了新的“機(jī)會(huì)窗口”,為更多技術(shù)領(lǐng)域向并跑、領(lǐng)跑轉(zhuǎn)變提供了趕超跨越的“新賽道”。
長(zhǎng)風(fēng)破浪會(huì)有時(shí),直掛云帆濟(jì)滄海。未來(lái),陳林森將帶領(lǐng)團(tuán)隊(duì),秉承自主創(chuàng)新精神,加強(qiáng)產(chǎn)學(xué)研深度合作,加快原創(chuàng)性高技術(shù)成果轉(zhuǎn)化和產(chǎn)業(yè)對(duì)接的步伐,推進(jìn)產(chǎn)業(yè)鏈創(chuàng)新建設(shè),全力解決我國(guó)戰(zhàn)略性產(chǎn)業(yè)關(guān)鍵設(shè)備、關(guān)鍵器件、關(guān)鍵材料的自主可控問(wèn)題,協(xié)同產(chǎn)業(yè)鏈快速建立國(guó)內(nèi)大循環(huán),實(shí)現(xiàn)國(guó)內(nèi)國(guó)際雙循環(huán),為建成世界科技強(qiáng)國(guó)不懈奮斗。
(來(lái)源:《中華英才》2021年22期  作者:張強(qiáng) 榮慶春


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